高精度光学光刻旋转平台

 提供高精度光学光刻旋转平台，即气浮转台，一般采用公司标准系列气浮转台，详见本网站气浮转台页面，或以此为基础改制。光学行业已经应用的场合有：偏测仪、定心车、大镜面研抛加工（机器人配合）、大镜面扫描测量；芯片半导体行业应用有：芯片测量、硅片抛光、硅片减薄、光刻、LDI光刻、手机生产链检测。

提供高精度光学光刻气浮位移平台：一般采用定制形式，光学行业已经应用的场合有：偏测仪Z轴台、定心车、CCD拼接仪、大镜面研抛加工、大镜面测量；芯片半导体行业应用有：芯片制程中的测量和检测、LED制程中的检测、光刻、LDI光刻、手机生产链检测。

气浮位移平台产品现状：目前有几种基本形式。一种是采用气足组合的，类似三坐标测量机位移平台结构。优点是成本低、搭建相对容易；缺点是刚度低只适合低速低频、结构复杂零件多、调整部件太多不稳定、精度相对较低。另一种是以美国areotech为代表的半导体行业专用气浮位移平台，优点是采用一体化的设计，精度高、可高速高频；缺点是对环境要求太高，尤其是对温度环境要求太高；其实对环境的过分要求，也会影响实际可以达到的精度，这类平台的精度指标都指的是在几乎理想环境下的指标。

天津中精微/北京航星联合的气浮位移平台，克服了目前各种结构形式的缺点，是目前国内国外高精度气浮位移平台首选：

1，在设计上消除了热膨胀系数的影响，温度适用性非常强

2，产品采用整体设计，精度高没有调整环节。

3，充分发掘潜力，最大程度提高气膜面积，承载往往超出数倍，刚度极好。适合高速高频运动。

提供高精度光学光刻气浮位移平台快速定制服务

以下高精度光学光刻气浮位移平台可以直接采用

高精度光学光刻旋转平台
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